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Autoren:
Sauter, Martin; Bertagnolli, Emmerich; Knapek, Erwin; Stemmer, Andreas; Fröschle, Barbara; Eisele, Ignaz; Klose, Helmut 
Dokumenttyp:
Zeitschriftenartikel / Journal Article 
Titel:
Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS 
Titel Sammlung:
Micro- and Nano-Engineering 95 
Zeitschrift:
Microeletronic Engineering 
Jahrgang:
30 
Heftnummer:
1-4 
Jahr:
1996 
Seiten von - bis:
31-34 
Sprache:
Englisch 
Fakultät:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik 
Institut:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik 
Professur:
Sauter, Martin 
Open Access ja oder nein?:
Nein / No