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Document type:
Zeitschriftenartikel / Journal Article
Title:
Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS
Collection title:
Micro- and Nano-Engineering 95
Journal:
Microeletronic Engineering
Volume:
30
Issue:
1-4
Year:
1996
Pages from - to:
31-34
Language:
Englisch
Department:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
Institute:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
Chair:
Sauter, Martin
Open Access yes or no?:
Nein / No
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