Die Raster-Kelvin-Mikroskopie bietet im Vergleich zu anderen Meßverfahren für Kontaktpotentialdifferenz beziehungsweise Austrittsarbeit mehrere Vorteile: Es ermöglicht direkte, zerstörungsfreie Messungen der Kontaktpotentialdifferenz mit lateraler Auflösung. Am zweckmäßigsten können Raster-Kelvin-Mikroskope anhand des Verfahrens zur Regelung des mittleren Abstands zwischen Probe und Sonde klassifiziert werden. Dabei erscheinen zur Zeit das modulierte Raster-Kelvin-Mikroskop sowie die Regelung durch Messung bei verschiedenen Probenvorspannungen am vielversprechendsten. Die vielfach praktizierte Regelung durch das Verhältnis der Harmonischen ist mit dem Nachteil der nur schwer reproduzierbaren Bedingungen behaftet und verliert daher zunehmend an Bedeutung. Neben den schon bekannten Anwendungsmöglichkeiten für die Raster-Kelvin-Mikroskopie wie der Werkstofforschung und der Halbleitertechnik gewinnt der Einsatz in der Biotechnologie zunehmend an Bedeutung. Jedoch ist auch 15 Jahre nach den ersten Messungen mit lateraler Auflösung das Raster-Kelvin-Mikroskop noch Objekt der Forschung und nicht Werkzeug für die Forschung. Ziel der weiteren Entwicklung ist daher in erster Linie, schnelle und reproduzierbare Messungen mit einfacher Bedienung zu kombinieren.
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