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Dokumenttyp:
Zeitschriftenartikel / Journal Article
Titel:
Physical characterization of mixed HfAlOx layers by complementary analysis techniques
Herausgeber Sammlung:
Dimoulas, A.; Fompeyrine, J.; Fanciulli, M.; Alexe, M.; Os, H. J.
Zeitschrift:
Materials Science and Engineering B
Jahrgang:
109
Heftnummer:
1-3
Jahr:
2004
Seiten von - bis:
60-63
Sprache:
Englisch
Stichwörter:
Composition ; Density measurement (specific gravity) ; Deposition ; Dielectric materials ; Ellipsometry ; Infrared spectroscopy ; Permittivity ; Rutherford backscattering spectroscopy ; Secondary ion mass spectrometry ; Silicon wafers ; Thermooxidation ; Thickness measurement ; Transmission electron microscopy ; Vacuum ; X ray photoelectron spectroscopy, Atomic layer deposition (ALD) ; HfAlOx ; High-κ dielectrics ; Physical characterization ; Hafnium compounds
Abstract:
The combined information of complementary physical analysis techniques is applied to obtain a full characterisation of the important material parameters of new high-k layers, i.e. the layer thickness, density, composition and interlayer thickness and nature, and to optimise the measurement methodologies of the different techniques.
ISSN:
0921-5107
Fakultät:
Fakultät für Luft- und Raumfahrttechnik
Institut:
LRT 2 - Institut für angewandte Physik und Messtechnik
Professur:
Dollinger, Günther
Open Access ja oder nein?:
Nein / No
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