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Dokumenttyp:
Zeitschriftenartikel / Journal Article
Titel:
Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS
Titel Sammlung:
Micro- and Nano-Engineering 95
Zeitschrift:
Microeletronic Engineering
Jahrgang:
30
Heftnummer:
1-4
Jahr:
1996
Seiten von - bis:
31-34
Sprache:
Englisch
URL zum Inhalt:
Fakultät:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
Institut:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
Professur:
Sauter, Martin
Open Access ja oder nein?:
Nein / No
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