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ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
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Authors:
Sauter, Martin; Bertagnolli, Emmerich; Knapek, Erwin; Stemmer, Andreas; Fröschle, Barbara; Eisele, Ignaz; Klose, Helmut
Document type:
Zeitschriftenartikel / Journal Article
Title:
Application of electron beam lithography for downscaling of SOI-Bipolar and BiCMOS
Collection title:
Micro- and Nano-Engineering 95
Journal:
Microeletronic Engineering
Volume:
30
Issue:
1-4
Year:
1996
Pages from - to:
31-34
Language:
Englisch
DOI:
10.1016/0167-9317(95)00188-3
URL:
https://doi.org/10.1016/0167-9317(95)00188-3
Department:
Fakultät für Elektrotechnik und Technische Informatik
Institute:
ETTI 1 - Institut für Physik, Elektrotechnik und Automatisierungstechnik
Chair:
Sauter, Martin
Open Access yes or no?:
Nein / No
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